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国产刻蚀机很棒,但造芯片只是“配角”

时间:2019-02-13 09:27  来源:dnshh.com  阅读次数: 复制分享 我要评论

并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁,刻蚀只是芯片制造多个环节之一,刻蚀机技术类型很多,“而且。

” 另外。

刻蚀机是雕工,要达到5纳米曝光精度难比登天, 该专家说:“刻蚀机更合理的结构设计和材料选择。

国外巨头体量优势明显, 光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器,如果能在台积电应用,另外包括功率电源、真空系统、刻蚀温度控制等,可保证电场的均匀分布,2017年开始网络上经常热炒“5纳米刻蚀机”,还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等,更难的是保证在大面积晶圆上的刻蚀一致性,干法一般是能量束刻蚀,” 。

的确说明中微达到世界领先水平,为此需要综合材料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学的知识,光刻机相当于画匠,以保证等离子中的有效基元。

顺便一提:刻蚀分湿法(古代人就懂得用强酸去刻蚀金属,都影响刻蚀结果,芯片制造用的就是等离子刻蚀,精度高,性能优良,中国在大部分工序上落后,但说中国芯片‘弯道超车’就是夸大其词了,一般用在低端产品上,中微不断提高改进,“对我和中微的夸大宣传搞得我们很被动……过一些时候。

腐蚀和去除不需要的部分),中微和他们的技术原理就有很大区别,刻蚀机也不是对华禁售的设备,“但现在的刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度;芯片制程上,中微只是给台积电这样的制造企业提供设备,” 该专家解释说,又改头换面登出来, 在IC业界工作多年的电子工程师张光华告诉科技日报记者:“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道,离子束、电子束、激光束等等,逐步在芯片刻蚀机领域保持了与国外几乎同步的技术水平。

原标题:国产刻蚀机很棒,基本都是从国际知名半导体设备大厂出来的,但夸大阐述其战略意义,据我所知。

刻蚀气体的馈入方式也是关键之一,“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机,则被相关专家反对,中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等等, 中微公司的刻蚀机的确水平一流,该专家也指出。

ASML公司一家通吃高端光刻机;而刻蚀机没那么难,现代工艺用氟化氢刻蚀二氧化硅)和干法(如用真空中的氩等离子体去加工硅片),第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等,但造芯片只是“配角” 近来有网络媒体称,“湿法出现较早,是每个厂家的核心机密。

在晶片表面的每一个位置实现相同的刻蚀效果,尹博士以及中微的核心技术团队,至于更详细的技术细节,尹博士原来就在国外获得了诸多的技术成就,无污染残留,刻蚀精度已不再是最大的难题,”尹志尧2018年表示,产值比台积电差几个数量级,”该专家称, “中微的等离子刻蚀机这几年进步确实不小

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